1L實驗室真空乳化機,真空均質(zhì)乳化反應釜系統(tǒng),高剪切分散設(shè)備

LD標準系統(tǒng)的處理量有0.5L、1L、2L、5L、10L等系列，能在真空或壓力環(huán)境下，實現(xiàn)物料的分散、乳化、均質(zhì)、混合等工藝過程。分散、均質(zhì)、乳化、反應、發(fā)酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等。

可配備多種高效宏觀攪拌器(可選)、高剪切均質(zhì)乳化機（可選）以及可靠的真空密封系統(tǒng)和溫控系統(tǒng)，多種傳感檢測系統(tǒng)能在實驗室環(huán)境模擬工業(yè)化生產(chǎn)。是常規(guī)成套實驗室設(shè)備的重點選擇對象，符合成套設(shè)備的所有模擬條件。

 

• 設(shè)備高度模塊化設(shè)計，可以選裝各種系統(tǒng)
• 高速馬達，長壽命設(shè)計,運轉(zhuǎn)穩(wěn)定
• 整機結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，選材精良，*的乳化系統(tǒng)
• 無級調(diào)速，zui高轉(zhuǎn)速可達28000rpm，zui高為您提供27m/s的剪切線速度
• 滿足您不同的工作環(huán)境（密閉、敞開、常壓、真空）
• 過載保護、雙重防護絕緣、給您安全保障
• 工作頭采用不銹鋼材質(zhì)，可重復使用，符合GMP衛(wèi)生標準
• 設(shè)備模塊化設(shè)計,任何系統(tǒng)可靈活組合?？焖俨鹧b工作頭

 應用領(lǐng)域：

分散、均質(zhì)、乳化、反應、發(fā)酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等

真空、攪拌、乳化均質(zhì)條件，適用膏霜制備、功能高分子合成、有機合成、乳化瀝青、改性瀝青等

LD-1L技術(shù)參數(shù)：

因為真空系統(tǒng)涉及的技術(shù)參數(shù)比較復雜，選型前請專業(yè)的工程師，已確保你的工藝無誤；

表格中的數(shù)值為準確的數(shù)據(jù)，因技術(shù)改進、非標定制的，以實際確認數(shù)值為準；

可加裝附件

PH計

電導率儀

冷凝器

滴加管

無菌取樣閥

設(shè)備整機質(zhì)保期12 個月，保修期內(nèi)非違規(guī)操作或無法抗拒的工況因素外，供方負責提供易損件，損壞的備件由供方認定損壞原因；

保修期外供方對設(shè)備提供終身有償維修；

LD-1L實驗室真空乳化機